Laser -

Prozesskontrolle bei der Laserreinigung durch Plasmaanalyse mittels niedrig auflösendem Spektrometer

Bei der Laserreinigung z.B. von Kulturgütern ist es von großer Bedeutung, eine Beschädigung des Materials unter der abzutragenden Schicht zu vermeiden. Ein Verfahren zur Überwachung des Laserabtragsprozesses ist die "Laser Induzierte Plasma Spektroskopie" (LIPS). Es wird hier gezeigt, dass ein niedrig auflösendes LIPS-System genügt, um den Abtragsprozess einer Excimer-Laseranlage zu überwachen und in Kombination mit einer Positioniereinheit zu regeln. Die Schichterkennung findet über lineare Korrelation mit einem vorher aufgenommenen Referenzspektrum statt. Wenn der Korrelationskoeffizient einen vorher festgelegten Wert überschreitet, wird der Reinigungsprozess gestoppt und an einer "neuen" Stelle fortgesetzt. Das Verfahren eignet sich auch für den kontrollierten Abtrag an Mehrschichtsystemen bei industriellen Anwendungen.

Exklusiv für registrierte Nutzer

Sie sind noch nicht registriert?
Jetzt registrieren und alle Beiträge vollständig lesen!

Sie sind bereits registriert?
Login

* Pflichtfelder bitte ausfüllen

Firmeninformationen
© photonik.de 2019 - Alle Rechte vorbehalten