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Mikroskopie Hochaufgelöste 3D-Analytik

Das ZEISS Crossbeam 550 ist eine neue Generation Fokussierter Ionenstrahl Rasterelektronenmikroskope (FIB-REM) mit höherer Auflösung für High-End-Anwendungen. Es können Nanostrukturen, beispielsweise  in Verbundwerkstoffen, Metallen, Biomaterialien oder Halbleitern, gleichzeitig mit analytischen und bildgebenden Methoden untersucht werden. Proben lassen sich simultan modifizieren und beobachten, was in schneller Probenpräparation und hohem Durchsatz resultiert, z. B. bei der Anfertigung von Querschnitten, TEM-Lamellen oder beim Nanopatterning. Der neue Tandem decel-Modus ermöglicht eine Maximierung des Bildkontrasts bei niedrigen Landeenergien. Mit der Gemini II Elektronenoptik werden optimale Auflösung bei Niederspannung und gleichzeitig hohem Strahlstrom erreicht. Die FIB-Säule kombiniert den höchsten verfügbaren FIB-Strom von 100 nA mit dem neuen FastMill-Modus. Damit wird eine hochpräzise und noch effizientere Materialbearbeitung bei gleichzeitiger Bildgebung ermöglicht.

Geeignete Einsatzgebiete des Systems sind sowohl die Materialwissenschaft als auch die Lebenswissenschaften. Die Integration in korrelative Workflows ist möglich,  da sich das Crossbeam 550 mit Licht-, Röntgen- und Ionenstrahlmikroskopie kombinieren lässt.

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