Forschung & Entwicklung

Bund fördert EUVL-Weiterentwicklung

10.08.2012

Das neue Verbundprojekt ETIK zielt darauf ab, die mittels EUV-Lithografie mit extrem ultraviolettem Licht erreichbare Auflösung auf mindestens 14 nm zu verbessern.

Justage einer EUV-Optik

Unter der Konsortialführerschaft der Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, ist ein BMBF-gefördertes Verbundprojekt gestartet, in dessen Fokus die EUV-Lithografie (EUVL) steht. Die derzeitige Generation dieser Technologie soll bereits Ende 2012 Serienreife erreichen und Strukturengrößen um 20 nm ermöglichen. Dabei stellt die extrem kurze Wellenlänge hohe technische Anforderungen an alle Systemkomponenten: da EUV-Strahlung selbst in Luft bereits auf einer Strecke von 1 mm vollständig absorbiert wird, kann ausschließlich mit reflektiven Optiken im Hochvakuum gearbeitet werden. Die abbildenden Oberflächen müssen äußerst formtreu sein, mit Oberlächenrauigkeiten im sub-nm-Bereich. Abgesehen hiervon ist auch die Entwicklung hinreichend leistungsfähiger EUV-Strahlungsquellen außerordentlich anspruchsvoll.
Im Verbundprojekt ETIK (EUV-Projektionsoptik für 14-nm-Auflösung) erforschen die Konsortialpartner nun neue Herstellungsverfahren für die Schlüsselbaugruppen von EUV-Anlagen, insbesondere das Beleuchtungssystem und die Projektionsoptik. Die Bestec GmbH, Berlin, entwickelt Maschinenkonzepte für eine neue Reflektometergeneration zur Messung des EUV-Reflexionsvermögens großer Spiegelflächen. Das Institut für Technische Optik der Universität Stuttgart erarbeitet und erprobt das Konzept einer flexiblen Passemesstechnik für Spiegel neuartiger Oberflächengeometrien. Leistungsfähige optische Bauelemente für das Projektionsobjektiv werden vom Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS) bereitgestellt. Die Fraunhofer-Institute für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP, Dresden, für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF, Jena, und für Werkstoff- und Strahltechnologie IWS, Dresden, erbringen wissenschaftlich-technische Leistungen zur weiteren Verbesserung der Oberflächenvergütung der reflektierenden Optikkomponenten des Projektionssystems. Darüber hinaus sind unter anderem Forschungsarbeiten auf den Gebieten der optischen Messtechnik sowie der Feinwerk- und Mikrokühltechnik geplant.
Das BMBF wird das auf drei Jahre ausgelegte Projekt ETIK mit insgesamt 7 Mio. € fördern. Die EUVL-Optiksysteme von Carl Zeiss werden in Wafersteppern des niederländischen Unternehmens ASML, Veldhoven, eingesetzt.

Photonik 5/2012

• http://www.zeiss.de/smt
• http://www.bmbf.de/de/3591.php

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