Fertigungstechnik

Ionenquelle für optische Schichten

16.08.2010

Die neue ECWR-Ionenquelle Lion 300 erlaubt beim Einsatz in den Leybold-Beschichtungsanlagen SyrusPro 1350 und 1510 die effiziente und stabile Produktion qualitativ hochwertiger Schichtsysteme auf großen Flächen. Die Plasma-Anregung der Quelle beruht auf dem Prinzip der Electron Cyclotron Wave Resonance (ECWR) und bietet einen hohen Gesamt-Ionenstrom bis 3 A ohne die Stromdichtebegrenzung herkömmlicher Drei-Gitter-Quellen. Durch die Form des Einzelgitters wird eine homogene Ionenstromdichteverteilung über große Substrathalter erreicht. Dabei können sowohl auf Glas als auch auf polymeren Substraten streu- und verlustarme kompakte Schichten mit hohen Brechungsindizes und geringer Drift abgeschieden werden. Die wartungsarme Quelle ist vollständig in das Anlagensteuerungssystem OptiControl integriert und kann mit verschiedenen Gasen incl. Sauerstoff eingesetzt werden, oder auch im Mischbetrieb wie z.B. mit Sauerstoff und Argon.

Photonik 4/2010
Firma: Leybold Optics GmbH

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