Laser Technology

Prozesskontrolle bei der Laserreinigung durch Plasmaanalyse mittels niedrig auflösendem Spektrometer

07.06.2005 - Photonik 3/2005

Bei der Laserreinigung z.B. von Kulturgütern ist es von großer Bedeutung, eine Beschädigung des Materials unter der abzutragenden Schicht zu vermeiden. Ein Verfahren zur Überwachung des Laserabtragsprozesses ist die "Laser Induzierte Plasma Spektroskopie" (LIPS). Es wird hier gezeigt, dass ein niedrig auflösendes LIPS-System genügt, um den Abtragsprozess einer Excimer-Laseranlage zu überwachen und in Kombination mit einer Positioniereinheit zu regeln. Die Schichterkennung findet über lineare Korrelation mit einem vorher aufgenommenen Referenzspektrum statt. Wenn der Korrelationskoeffizient einen vorher festgelegten Wert überschreitet, wird der Reinigungsprozess gestoppt und an einer "neuen" Stelle fortgesetzt. Das Verfahren eignet sich auch für den kontrollierten Abtrag an Mehrschichtsystemen bei industriellen Anwendungen.

Photonik 3/2005
Authors: Marco Lentjes, Klaus Dickmann, Laserzentrum FH Münster; Johan Meijer, Universität Twente, NL

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