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Lasertechnik

Linienstrahllaser zum großflächigen Umschmelzen

10.12.2009

Neben Dauerstrahl auch gepulster oder leistungs-modulierter Betrieb

Das neue Linienstrahl-Diodenlasersystem mit einer Wellenlänge von 810 nm kann eine Linie mit 0,2 mm Breite und 110 mm Länge homogenen bestrahlen. Durch die kompakte Konstruktion (233 x 226 x 260 mm3) können mehrere Systeme so angeordnet werden, dass über eine beliebig große Bahnbreite Metall- oder Halbleiter-Oberflächen umgeschmolzen werden können. Die Leistungsdichte von typisch >10 kW/cm2 erlaubt eine hohe Bearbeitungsgeschwindigkeit. Anwendungen sind Umschmelz-Prozesse z.B. von Siliziumoberflächen in der Produktion von Solarzellen.

Photonik 6/2009
Firma: iie GmbH

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