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Print-Erscheinungstermin
war am 13.12.2011
Die nächste Ausgabe der Photonik - Fachzeitschrift für die Optischen Technologien erscheint am 16. Februar
Themenvorschau:
Die sCMOS-Welle * Optische Freiformflächen – ein Überblick * Rückseitig belichtete CMOS-Bildsensoren für höhere Empfindlichkeit * Schneller photonischer Quantenzufallsgenerator mit nachweisbar beschränktem Bias * Magnetooptische Analyse und Visualisierung der Verteilung magnetischer Felder * Interview zum neuen DLP LightCrafter * Biokompatibles Nano-Schmiermittel ersetzt Öl und Fett
Anzeigenschluss der
Photonik 1/2012 ist
am 30. Januar
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Herausgeber und Verlag
AT-Fachverlag GmbH
Saarlandstraße 28
70734 Fellbach
Telefon 0711/95 29 51-0
Telefax 0711/95 29 51-99
www.at-fachverlag.de
www.photonik.de
Verantwortlich für den Inhalt:
Redaktion Photonik Sitz der GmbH: Stuttgart
Amtsgericht Stuttgart
HRB 3949
Geschäftsführer:
Werner Pagé
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Newsletter 25. Januar 2012 |
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Zwischenbericht Photonics West
Mit dem Öffnen der Tore begann am 24. Januar (Dienstag) der Ansturm auf die Aussteller der Photonics West 2012. Wenn das Jahr...[mehr lesen] |
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Norman Edmund verstorben
Wie Robert Edmund, CEO der Edmund Optics, Inc. (EO), Barrington, New Jersey, am Morgen des 17. Januar mitteilte, ist sein Vater... [mehr lesen] |
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AMS Technologies übernimmt Azpect Photonics
Die AMS Technologies AG, Martinsried, Anbieter von Optoelektronik, Wärmemanagement und Leistungselektronik, meldete am 16. Janu...[mehr lesen] |
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EU fördert Faserlaser-Projekt
Anfang Oktober 2011 fiel der Startschuss für ein neues EU-Projekt innerhalb des 7. Rahmenprogramms zur Entwicklung von Faserlas... [mehr lesen] |
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Schott schließt Solarwafer-Fertigung in Jena
Die Schott Solar AG, Mainz, konzentriert sich im Geschäftsfeld Photovoltaik künftig auf das wachstumsstarke Modul- und Projektg...[mehr lesen] |
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Anstehende Calls for Papers sowie weitere Veranstaltungen finden Sie in unserem Veranstaltungskalender. |
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Lesetipp |
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Bei der Fertigung makro-
skopischer monolithischer Quarzglasprodukte mittels eines etablierten Sol-Gel-Verfahrens stellt sich die Frage, bis zu welcher minimalen Größe Ober-
flächenstrukturen präzise repliziert werden können, und ob die so erzeugten dreidimensionalen Strukturen zur Strahlformung geeignet wären. Die Entwicklungs-
ergebnisse aus dem Projekt SINOMICS zeigen, dass das Sol-Gel-Verfahren tatsächlich eine Alternative zur Herstellung von Mikrostrukturen für z.B. diffraktive optische Elemente (DOE) aus synthetischem Quarzglas ist....
>>Lesen Sie mehr...
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Advertorial |
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Alle Fachaufsätze 2011, nach Rubriken sortiert und verlinkt, finden Sie im aktuellen Jahresinhaltsverzeichnis 2011. |
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